Acétate de 4-éthénylphénol CAS 2628-16-2

Le p-acétoxystyrène peut être utilisé pour synthétiser le polyparahydroxystyrène en tant que composant principal d'un photorésist (photorésist). Les séries de photorésists à amplification chimique poly-p-hydroxystyrène sont actuellement les principaux produits de photoréserve dans le monde et constituent l’une des technologies clés pour le traitement des circuits intégrés de photogravure et la fabrication de puces. La technologie de photogravure est développée de la production de la largeur de trait de 0,3 à 0,28 µm à la lumière ultraviolette profonde (longueur d'onde 248nm) pour produire une largeur de trait de 0,18 μm. La lumière ultraviolette ultra-profonde (longueur d'onde 193nm) peut être utilisée pour tracer la largeur de trait à un microcircuit de 0,11 µm. La résine photosensible de 248 nm utilise généralement un dérivé de poly-p-hydroxystyrène en tant que résine filmogène, un sel d'aryliodonium ou un sel de sulfonium en tant que générateur de photoacide, en utilisant une technologie d'amplification chimique pour libérer le générateur de photoacide à la lumière. gélification négative) ou la réaction de déprotection (gélatinisation positive), augmentant ainsi considérablement la photosensibilité.